Nadaje się do wszystkich wyparek rotacyjnych Hei-VAP. Podciśnienie może być kontrolowane ręcznie lub za pomocą sterowanego zaworem regulatora podciśnienia.Z dwustopniową pompą membranowąWszystkie elementy mające kontakt z mediami zbudowane są z chemicznie odpornego fluoropolimeruTrwała konstrukcja z PTFE gwarantuje najwyższą trwałość membranyOsłona głowicy i tarcza mocująca mają stabilny rdzeń wykonany z metalu, który zapewnia niezrównaną, długoterminową wydajność parametrów pracyBezpośredni napęd pompy (bez pasa) jest wyjątkowo cichy, tworzy bardzo niskie środowisko wibracyjne i zmniejsza do minimum potrzebę stosowania części zużywalnychZawór balastowy gazu został zoptymalizowany, aby zapobiec skraplaniu się czynnika w pompiePompy mogą być łączone ze skraplaczemW połączeniu z wyparkami rotacyjnymi Hei-VAP Precision konieczne jest zastosowanie zaworu próżniowegoZalecane do rozpuszczalników o niskiej lub średniej temp. wrzenia.

Kompaktowe systemy próżniowe, gotowe do użytku. Wykonane z materiałów wysoce odpornych chemicznie. Cicha praca.W 100% bezolejowe pompowanie gazówW standardzie balast gazowy do pracy ze skraplającymi się paramiUtrzymanie właściwej próżni końcowej, nawet przy pracy z balastem gazowymDuża tolerancja na pary wody i rozpuszczalnikówDługi okres eksploatacji, niskie koszty utrzymaniaWłaściwości:2AK: Separator wlotowy i wylotowyAK + EK: Separator wlotowy, wylotowy skraplacz parPC 510 select (dwustopniowa) / 610 select (trójstopniowa): z AK + EK; 1 elektronicznie kontrolowany port próżniowyPC 511 select (dwustopniowa) / 611 select (trójstopniowa): z AK + EK; 1 elektronicznie i 1 ręcznie kontrolowany port próżniowyPC 520 select (dwustopniowa) / 620 select (trójstopniowa): z AK + EK; 2 elektronicznie kontrolowane porty próżnioweCharakterystyka i zastosowania:Bez kontroli próżni:MZ 2C NT + 2AK: Np. filtracja, destylacja bez skraplania na wylocie.MZ 2C NT + AK + EK: Systemy próżniowe o szerokim spektrum zastosowań do jednego urządzenia, np. do suszenia żeli, destylacji, zatężania próżniowego. Odpowiednie do rozpuszczalników wrzących w niskich temp.MD 1C + AK + EK: Kompaktowe systemy próżniowe do jednego urządzenia. Do rozpuszczalników wrzących w wysokich temp.MD 4C NT + AK + EK: Do większych aplikacji lub pracujące z wieloma urządzeniami w lokalnej sieci próżniowej (VACUU·LAN®). Odpowiednie do rozpuszczalników o wysokich temp. wrzenia.MV 10C NT + EK: Czterostopniowe pompy membranowe ze skraplaczem wylotowym. Spełniają wysokie wymagania dotyczące niskiej próżni końcowej i prędkości pompowania w laboratoriach chemicznych, i przy produkcji.Z kontrolerem próżni:PC 510 select/ 511 select: Systemy o szerokim spektrum zastosowań w laboratoriach chemicznych, np. do wszystkich "klasycznych" rozpuszczalników o niskich temp. wrzenia. PC 511 select dodatkowo posiada ręcznie regulowany port próżniowy.PC 610 select/ 611 select: Rozwiązanie pozwalające na sterowanie procesami odparowywania i suszenia nawet przy użyciu rozpuszczalników o wysokiej temperaturze wrzenia. PC 611 select dodatkowo posiada ręcznie regulowany port próżniowy.PC 520 select/ 620 select: Pompy chemoodporne posiadające dwa niezależne kontrolery próżni do prowadzenia dwóch procesów jednocześnie.Specyficzne dla danego kraju wersje przewodów zasilających dostępne są na życzenie.

Wysoka wydajność zapewnia szybki transfer gazówMoc odpowiednia do obsłużenia jednocześnie nawet do 3 wyparek próżniowychW zależności od aplikacji istnieje możliwość włączania lub wyłączania pompy za pomocą przełącznika (switchbox)

Moduły do systemu próżniowego LABOPORT®.Opis w tabeli.